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等离子清洗机在半导体晶圆清洗工艺上的应用
等离子清洗机在半导体晶圆清洗工艺上的应用
2020-10-10
文章出自公众号:半导体湿化学工艺与设备随着半导体技术的不断发展,对工艺技术的要求越来越高,特别是对半导体圆片的表面质量要求越来越严,其主要原因是圆片表面的颗粒和金属杂质沾污会严重影响器件的质量和成品率
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