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实验用真空等离子设备PR10L
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编号 内容 规格参数
1 机台整机规格 650mm(W)×550mm(D)×450mm(H)
2 真空室规格 进口铝 200(W)×200(H)×250(D)mm,10L
3 电极板规格 专用铝电极 150(L)×150(W)mm
4 真空泵系统 机械旋片真空泵(外置)
5 真空测定系统 皮拉尼电阻式真空计
6 气体计量系统 可调节浮子流量计
7 气体路数 2路进气,1路放空
8 等离子发生器 40KHz,高频发生源,0-1000W可调
9 工作气体 2路工作气体可选:Ar2、N2、H2、O2
特 点:高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支撑
适用于高校实验室、半导体IC领域,体积较小的产品的表面情急与活化。

用 途:适用于摄像头及行业,手机制造、半导体IC领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。
1、摄像头、指纹识别行业:软硬结合板的金PAD表面去氧化;IR表面清洗、清洁;
2、半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗 ;
3、硅胶、塑胶、聚合体领域:硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。
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